На московском предприятии ГК «Лассард» произведены первые опытные образцы эксимерного лазера, который является ключевым для литографического процесса изготовления микроэлектроники с нормами проектирования вплоть до 65 нм.
Эксимерный лазер, опытные образцы которого сегодня произведены ГК «Лассард», позволяет говорить о том, что мы все ближе к производству литографов на 130 нм (который появится в 2026 году), а в перспективе — и на 90нм, — заявили в Министерстве промышленности.
— Лазер дает возможность модифицировать характеристики в сторону более тонкой топологии. Более того, скажу, что мы уже ведем работу на перспективу, разрабатывая материалы и заказывая работы для установок 90 нм и 65 нм. работу над литографическим оборудованием.
ГК «Лассард» выступает как разработчик эксимерного лазера для литографа. Саму же литографическую установку разрабатывает Зеленоградский нанотехнологический центр. Срок ее поставки — 2026 год, но потенциальные заказчики на нее уже есть. Прежде всего, это, конечно, «Микрон», который заинтересован в масштабировании своего производства и на 130 нм, и на 90 нм, и на 65 нм, где по последней топологии есть пока только опытное производство. Естественно, что потребность перевести его в серийное большая. Однако для этого как раз и необходимо литографическое оборудование с соответствующей точностью экспонирования.
К моменту публикации материала производство лазеров для литографов в России не существовало в принципе. Сейчас их выпуском занимались всего лишь две компании в мире — японская GigaPhoton и американская Cymer.
Как сообщили в Минпроме, у России есть шансы стать третьей страной в мире, где налажено подобное производство. Вопрос теперь лишь в том, когда именно «после 2026 г.» заработает линия по их сборке.
Еще больше новостей |  |
